| Số TT | Tên thiết bị | Ứng dụng | Chi tiết thiết bị | Xuất xứ/Hãng SX | Người phụ trách |
| 01 | Hệ phún xạ 
| - Chế tạo màng mỏng và các linh kiện điện tử | Hệ bao gồm:
- Buồng tạo plasma
- Tủ điều khiển
- 2 bơm turbo và 2 bơm cơ học
- 2 nguồn AC, 2 nguồn DC
- Máy tính điều khiển
- Hệ thống làm mát
- Khí Ar, N2
- Khí nén | ACT Orion Sputtering System (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 02 | Hệ thống lò ôxy hóa 
| - Oxy hóa phiến Si. | Hệ bao gồm:
- Lò nung nhiệt độ tối đa 1250C
- Hệ thống hút thải khí
- Khí O2, N2 | RCH Asociates (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 03 | Hệ tạo nước sạch 
| - Tạo nước sạch/siêu sạch | - Tốc độ: 1.8 lít/phút
- Độ dẫn tại 25°C: 0.005microS/cm
- Điện trở tại 25°C: 18.3M-Omh-cm | Cole-Parmer (Đức) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 04 | Hệ quay phủ 
| - Tạo màng mỏng từ các dung dịch | | Laurell (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 05 | Bể rửa hóa học 
| - Rửa làm sạch phiến | - Tủ và chậu rửa thí nghiệm ướt bằng vật liệu Polypropylene
- Súng phun nước
- Súng phun khí Nitơ | Clean Zones (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 06 | Tủ lạnh âm sâu 
| Lưu trữ bảo quản hóa chất, mẫu ở nhiệt độ thấp | - Dung tích: 160 lít
- Nhiệt độ thấp nhất: -18°C | Haier (Trung Quốc) | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 07 | Hệ tạo khí N2 sạch 
| - Tách lọc khí N sạch từ không khí | | Đan Mạch | Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường |
| 08 | Hệ huỳnh quang 
| - Phân tích tính chất quang của vật liệu. Có khả năng đo các phép đo sau:
- Đo bức xạ huỳnh quang từ 180 nm đến 1550 nm
- Đo hấp thụ huỳnh quang từ 250 nm đến 750 nm
- Đo thời gian sống của hạt tải
- Các phép đo quang ở nhiệt độ thấp | - Bàn quang học
- Ba bộ tán sắc bao gồm 2 bộ tán sắc ánh sáng phát ra từ mẫu, 01 bộ tán sắc cho đèn Xenon
- Đèn Xenon
- 01 CCD, 01 IAG, 02 PMT detector
- Bộ phận đo thời gian sống hạt tải
- 05 Nano LED
- Kính lọc bước song các loại | Horiba (Mỹ) | Nguyễn Duy Hùng |
| 09 | Hệ huỳnh quang phân giải cao 
| - Phân tích tính chất quang của vật liệu với độ phân giải cao
- Đo bức xạ huỳnh quang từ 180 nm đến 1650 nm
- Đo và phân tích Raman
- Đo và phân tích thời gian sống của hạt tải
- Các phép đo quang ở nhiệt độ thấp | - Bàn quang học chống rung
- Hệ tán sắc phân giải cao với f=1000 mm
- Dao động ký tần số cao
- Hệ thống gương và thấu kính
- Kính lọc bước sóng các loại | Horiba (Mỹ) | Nguyễn Duy Hùng |
| 10 | Dao động ký tần số cao 
| - Thiết bị phụ trợ cho đo thời gian sống của phát xạ huỳnh quang. | - Số kênh: 4
- Thời gian tăng: 10% - 90%: 300 ps, 20% - 80%: 200 ps hoặc trong khoảng tương đương nhưng ≤ 350ps
- Tốc độ lấy mẫu: 5 GS/s / kênh
- Tốc độ lấy mẫu lặp lại: 50 GS/s | LECROY (Mỹ) | Nguyễn Duy Hùng |
| 11 | Laser xung năng lượng cao 
| - Kích thích mẫu trong các phép đo huỳnh quang | - Phát xung laser ở các bước sóng: 1064 nm, 532 nm, 355 nm và 266 nm với các thông số sau:
- Kiểu dao động: TEM00 master oscillator
- Tín hiệu: TTL signals
- Tần số: ≥10Hz
- Năng lượng:
+ ≥ 50 mJ tại 1064 nm
+ ≥ 25 mJ tại 532 nm
+ ≥10 mJ tại 355 nm
+ 5 ≥ mJ tại 266 nm | EKSPLA (Lithuania) | Nguyễn Duy Hùng |
| 12 | Đo kích thước chùm tia 
| - Xác định kích thước chùm tia laser | - Cho phép xác định kích thước chùm tia laser liên tục và xung
- Đầu thu : Si-UV enhanced
- Đường kính đầu thu: 9 mm
-Kích thước khe thu: 5 μm
-Dải bước sóng đo: ≤200 nm - ≥1100 nm
-Độ rộng chùm tia có thể đo: ≤ 20 μm - ≥ 9 mm | Thorlabs (Mỹ) | Nguyễn Duy Hùng |
| 13 | Thiết bị đo năng lượng/công suất cao 
| - Đo công suất chùm tia laser | - Đầu đo pin nhiệt diện tích rộng, đường kính 10 mm - 20 mm
- Đĩa graphite mật độ cao
- Độ đồng đều: ± 1% over central 8 mm
- Dải bước sóng: 190 nm - 25 μm
- Thất thoát công suất cực đại: 3W
- Dải công suất quang: 10 mW - 10W | Thorlabs (Mỹ) | Nguyễn Duy Hùng |
| 14 | Lò nung vuông 
| - Nhiệt độ lớn nhất 1300°C.
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc
| - Nung các vật liệu phục vụ cho quá trình nghiên cứu xúc tác | Nabertherm (Đức) | Phạm Hùng Vượng |
| 15 | Lò ống 
| - Nhiệt độ lớn nhất 1100°C.
- Tốc độ nâng nhiệt: 50C/phút
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc | - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp bốc bay nhiệt | NBD (Trung Quốc) | Phạm Hùng Vượng |
| 16 | Lò ống 
| - Nhiệt độ lớn nhất 1200°C.
- Tốc độ nâng nhiệt: 50C/phút
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc | - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp bốc bay nhiệt | Nabertherm (Đức) | Phạm Hùng Vượng |
| 17 | Lò ống CVD nhiệt độ cao 
| - Nhiệt độ lớn nhất 1300°C.
- 03 bộ điều chỉnh lưu lượng khí cho các khí N2, O2 và forming gas
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc | - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp CVD nhiệt | Nabertherm (Đức) | Phạm Hùng Vượng |
| 18 | Thiết bị nghiền hành tinh 
| - Nghiền vật liệu | | Retsch (Đức) | Phạm Hùng Vượng |
| 19 | Máy ly tâm 
| - Tách vật liệu kích thước nm từ dung dịch | - Tốc độ tối đa: 18000 vòng/phút
- Dung tích lớn nhất: 300 ml | Hettich (Đức) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 20 | Tủ sấy chân không 
| - Hút và sấy các vật liệu, dụng cụ thiết bị hóa học | - Có thể điều chỉnh nhiệt độ sấy, tốc độ gia nhiệt, thời gian sấy
- Cho phép các vật liệu chứa axit
- Thể tích buồng làm việc: 19.8 lít
- Nhiệt độ làm việc: Nhiệt độ phòng – 200°C
- Chân không: 762-0 mmHg | Cole-Parmer (Mỹ) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 21 | Bể siêu âm 
| - Rung siêu âm rửa, phân tán vật liệu | - Hai tần số siêu âm: 25 kHz, 45 Hz
- Nhiệt độ: 30 – 85 °C
- Thể tích bể cực đại: 30 lít | Telsonic (Switzerland) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 22 | Tủ hút 
| - Hút khí thải, khí độc thoát ra trong quá trình điều chế vật liệu, sấy và nung các vật liệu | Hệ thống quạt hút công suất lớn, tích hợp đèn chiếu sáng, hệ thống nước rửa và hệ thống điện cho các thí nghiệm | ESCO (Singapore) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 23 | Máy khuấy từ gia nhiệt 
| - Khuấy trộn và gia nhiệt trong quá trình khuấy trộn mẫu | Tốc độ khuấy tối đa: 1200 vòng/phút
Khả năng gia nhiệt đến 370°C
Thể tích khuấy tối đa: 15 lít | Velp(Ý) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 24 | Máy khuấy dùng cánh khuấy 
| - Khuấy trộn vật liệu dùng cánh khuấy/que khuấy | - Tốc độ khuấy: 50 – 1300 vòng/phút
- Thể tích khuấy tối đa: 15 lít
- Độ nhớt tối đa cho phép: 1000 mPa.s
- Lực xoắn tối đa: 17 Mcm | Velp(Ý) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 25 | Cân phân tích 
| - Cân vật liệu trong quá trình chế tạo vật liệu | - Dải cân: 210g
- Độ chính xác 10-4g | A&D (Nhật Bản) | Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan |
| 26 | Thiết bị đo độ nhớt 
| - Đo độ nhớt động học sử dụng phương pháp điều chỉnh thanh mẫu | - Dải tần rung: 30Hz
- Dải đo: 0.3-10 Pa.s
- Độ chính xác: 1% giá trị đọc | A&D (Nhật Bản) | Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn |
| 27 | Keithley 
| - Nguồn điều chỉnh cho các linh kiện điện tử | - Keithley
- Máy tính kết nối | Keithley (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn |
| 28 | Hệ điện hóa 
| - Đo các đặc trưng của sensor điện hóa | -Bộ đo điện hóa
-Máy tính và phần mềm đo
-Máy khuấy từ gia nhiệt | Zahner (Đức) | Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn |
| 29 | Thiết bị phân tích đa chức năng 
| - Đo đạc chính xác các đặc trưng của linh kiện bán dẫn | -Màn hình hiển thị cài đặt sử dụng Win XP
-Bàn phím điều khiển
-Cáp kết nối | Keithley (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn |
| 30 | Thiết bị đo điện trở 4 đầu dò 
| - Đo các thông số IV, CV của các linh kiện điện tử | - Bàn chống rung
- Hệ bốn mũi dò
- Kính hiển vi | Cascade Microtech (Mỹ) | Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn |
| 31 | Máy đo từ kế mẫu rung (VSM) 
| - Đo tính chất từ (đường cong từ trễ; ZFC/FC, từ trở (MR)...) | - Mẫu đo từ: dạng bột, màng, lỏng, khối, dây.
- Mẫu đo từ trở: màng mỏng kích thước 3x9 mm
- Độ lớn từ trường: 2,2 T
- Dải nhiệt độ đo: -77 K - 1000 K | MicroSence EZ9 (Mỹ) | Lê Anh Tuấn, Vũ Ngọc Phan |
| 32 | Máy đo hiệu ứng Hall (Lakeshore 7607) 
| - Xác định các thông số Hall (điện trở, điện thế, độ linh động Hall) của các loại vật liệu bán dẫn có dạng bột ép, màng.
- Xác định loại bán dẫn (n và p) và nồng độ hạt tải
- Xác định độ linh động của hạt tải
| - Hình thái mẫu chuẩn Van der Pauw, thanh Hall (4, 6, hoặc 8 tiếp xúc).
- Kích thước mẫu :(1 x 1) cm và (5 x 5) cm
- Độ lớn từ trường : 1.6 T ở nhiệt độ phòng, 1.2 T ở nhiệt độ thấp
- Khoảng đo theo nhiệt độ : 15 K - 300 K
- Độ nhạy : R : 10 mOhm - 10 MOhm, I : 50 nA - 1 A.
| Lakeshore (Mỹ) | Nguyễn Xuân Sáng, Đoàn Quảng Trị |
