Cơ sở vật chất
Số TTTên thiết bịỨng dụngChi tiết thiết bịXuất xứ/Hãng SXNgười phụ trách
01

Hệ phún xạ

- Chế tạo màng mỏng và các linh kiện điện tửHệ bao gồm:
- Buồng tạo plasma
- Tủ điều khiển
- 2 bơm turbo và 2 bơm cơ học
- 2 nguồn AC, 2 nguồn DC
- Máy tính điều khiển
- Hệ thống làm mát
- Khí Ar, N2
- Khí nén
ACT Orion Sputtering System (Mỹ)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
02

Hệ thống lò ôxy hóa

 - Oxy hóa phiến Si. Hệ bao gồm:
- Lò nung nhiệt độ tối đa 1250C
- Hệ thống hút thải khí
- Khí O2, N2
RCH Asociates (Mỹ)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
03

Hệ tạo nước sạch

 - Tạo nước sạch/siêu sạch - Tốc độ: 1.8 lít/phút
- Độ dẫn tại 25°C: 0.005microS/cm
- Điện trở tại 25°C: 18.3M-Omh-cm
Cole-Parmer (Đức)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
04

Hệ quay phủ

 - Tạo màng mỏng từ các dung dịch Laurell (Mỹ)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
05

Bể rửa hóa học

 - Rửa làm sạch phiến - Tủ và chậu rửa thí nghiệm ướt bằng vật liệu Polypropylene
- Súng phun nước
- Súng phun khí Nitơ
Clean Zones (Mỹ)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
06

Tủ lạnh âm sâu

 Lưu trữ bảo quản hóa chất, mẫu ở nhiệt độ thấp - Dung tích: 160 lít
- Nhiệt độ thấp nhất: -18°C
Haier (Trung Quốc)Phương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
07

Hệ tạo khí N2 sạch

 - Tách lọc khí N sạch từ không khí Đan MạchPhương Đình Tâm, Nguyễn Duy Cường
08

Hệ huỳnh quang

 - Phân tích tính chất quang của vật liệu. Có khả năng đo các phép đo sau:
- Đo bức xạ huỳnh quang từ 180 nm đến 1550 nm
- Đo hấp thụ huỳnh quang từ 250 nm đến 750 nm
- Đo thời gian sống của hạt tải
- Các phép đo quang ở nhiệt độ thấp
  - Bàn quang học
- Ba bộ tán sắc bao gồm 2 bộ tán sắc ánh sáng phát ra từ mẫu, 01 bộ tán sắc cho đèn Xenon
- Đèn Xenon
- 01 CCD, 01 IAG, 02 PMT detector
- Bộ phận đo thời gian sống hạt tải
- 05 Nano LED
- Kính lọc bước song các loại
Horiba (Mỹ)Nguyễn Duy Hùng
09

Hệ huỳnh quang phân giải cao

 - Phân tích tính chất quang của vật liệu với độ phân giải cao
- Đo bức xạ huỳnh quang từ 180 nm đến 1650 nm
- Đo và phân tích Raman
- Đo và phân tích thời gian sống của hạt tải
- Các phép đo quang ở nhiệt độ thấp
  - Bàn quang học chống rung
- Hệ tán sắc phân giải cao với f=1000 mm
- Dao động ký tần số cao
- Hệ thống gương và thấu kính
- Kính lọc bước sóng các loại
Horiba (Mỹ)Nguyễn Duy Hùng
10

Dao động ký tần số cao

 - Thiết bị phụ trợ cho đo thời gian sống của phát xạ huỳnh quang. - Số kênh: 4
- Thời gian tăng: 10% - 90%: 300 ps, 20% - 80%: 200 ps hoặc trong khoảng tương đương nhưng ≤ 350ps
- Tốc độ lấy mẫu: 5 GS/s / kênh
- Tốc độ lấy mẫu lặp lại: 50 GS/s 
LECROY (Mỹ)Nguyễn Duy Hùng
11

Laser xung năng lượng cao

- Kích thích mẫu trong các phép đo huỳnh quang - Phát xung laser ở các bước sóng: 1064 nm, 532 nm, 355 nm và 266 nm với các thông số sau:
- Kiểu dao động: TEM00 master oscillator
- Tín hiệu: TTL signals
- Tần số: ≥10Hz
- Năng lượng:
+ ≥ 50 mJ tại 1064 nm
+ ≥ 25 mJ tại 532 nm
+ ≥10 mJ tại 355 nm
+ 5 ≥ mJ tại 266 nm
EKSPLA (Lithuania)Nguyễn Duy Hùng
12

Đo kích thước chùm tia

- Xác định kích thước chùm tia laser - Cho phép xác định kích thước chùm tia laser liên tục và xung
- Đầu thu : Si-UV enhanced
- Đường kính đầu thu: 9 mm
-Kích thước khe thu: 5 μm
-Dải bước sóng đo: ≤200 nm - ≥1100 nm
-Độ rộng chùm tia có thể đo: ≤ 20 μm - ≥ 9 mm
Thorlabs (Mỹ)Nguyễn Duy Hùng
13

Thiết bị đo năng lượng/công suất cao

- Đo công suất chùm tia laser - Đầu đo pin nhiệt diện tích rộng, đường kính 10 mm - 20 mm
- Đĩa graphite mật độ cao
- Độ đồng đều: ± 1% over central 8 mm
- Dải bước sóng: 190 nm - 25 μm
- Thất thoát công suất cực đại: 3W
- Dải công suất quang: 10 mW - 10W
Thorlabs (Mỹ)Nguyễn Duy Hùng
14

Lò nung vuông

- Nhiệt độ lớn nhất 1300°C.
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc
 
 - Nung các vật liệu phục vụ cho quá trình nghiên cứu xúc tácNabertherm (Đức)Phạm Hùng Vượng
15

Lò ống

- Nhiệt độ lớn nhất 1100°C.
- Tốc độ nâng nhiệt: 50C/phút
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc
 - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp bốc bay nhiệt NBD (Trung Quốc)Phạm Hùng Vượng
16

Lò ống

 - Nhiệt độ lớn nhất 1200°C.
- Tốc độ nâng nhiệt: 50C/phút
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc
  - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp bốc bay nhiệt Nabertherm (Đức)Phạm Hùng Vượng
17

Lò ống CVD nhiệt độ cao

- Nhiệt độ lớn nhất 1300°C.
- 03 bộ điều chỉnh lưu lượng khí cho các khí N2, O2 và forming gas
- Tự động ngắt khi quá trình làm việc kết thúc
  - Tổng hợp vật liệu có kích thước thấp chiều bằng phương pháp CVD nhiệt Nabertherm (Đức)Phạm Hùng Vượng
18

Thiết bị nghiền hành tinh

- Nghiền vật liệu   Retsch (Đức)Phạm Hùng Vượng
19

Máy ly tâm

- Tách vật liệu kích thước nm từ dung dịch- Tốc độ tối đa: 18000 vòng/phút
- Dung tích lớn nhất: 300 ml
 Hettich (Đức)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
20

Tủ sấy chân không

- Hút và sấy các vật liệu, dụng cụ thiết bị hóa học - Có thể điều chỉnh nhiệt độ sấy, tốc độ gia nhiệt, thời gian sấy
- Cho phép các vật liệu chứa axit 
- Thể tích buồng làm việc: 19.8 lít
- Nhiệt độ làm việc: Nhiệt độ phòng – 200°C
- Chân không: 762-0 mmHg
 Cole-Parmer (Mỹ)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
21

Bể siêu âm

- Rung siêu âm rửa, phân tán vật liệu  - Hai tần số siêu âm: 25 kHz, 45 Hz
- Nhiệt độ: 30 – 85 °C
- Thể tích bể cực đại: 30 lít
 Telsonic (Switzerland)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
22

Tủ hút

- Hút khí thải, khí độc thoát ra trong quá trình điều chế vật liệu, sấy và nung các vật liệu Hệ thống quạt hút công suất lớn, tích hợp đèn chiếu sáng, hệ thống nước rửa và hệ thống điện cho các thí nghiệm ESCO (Singapore)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
23

Máy khuấy từ gia nhiệt

- Khuấy trộn và gia nhiệt trong quá trình khuấy trộn mẫu Tốc độ khuấy tối đa: 1200 vòng/phút
Khả năng gia nhiệt đến 370°C
Thể tích khuấy tối đa: 15 lít
 Velp(Ý)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
24

Máy khuấy dùng cánh khuấy

- Khuấy trộn vật liệu dùng cánh khuấy/que khuấy - Tốc độ khuấy: 50 – 1300 vòng/phút
- Thể tích khuấy tối đa: 15 lít
- Độ nhớt tối đa cho phép: 1000 mPa.s
- Lực xoắn tối đa: 17 Mcm
 Velp(Ý)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
25

Cân phân tích

- Cân vật liệu trong quá trình chế tạo vật liệu - Dải cân: 210g
- Độ chính xác 10-4g
 A&D (Nhật Bản)Nguyễn Thị Lan, Vũ Ngọc Phan
26

Thiết bị đo độ nhớt

- Đo độ nhớt động học sử dụng phương pháp điều chỉnh thanh mẫu - Dải tần rung: 30Hz
- Dải đo: 0.3-10 Pa.s
- Độ chính xác: 1% giá trị đọc
 A&D (Nhật Bản)Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn
27

Keithley

- Nguồn điều chỉnh cho các linh kiện điện tử - Keithley
- Máy tính kết nối
 Keithley (Mỹ)Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn
28

Hệ điện hóa

- Đo các đặc trưng của sensor điện hóa -Bộ đo điện hóa
-Máy tính và phần mềm đo
-Máy khuấy từ gia nhiệt
 Zahner (Đức)Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn
29

Thiết bị phân tích đa chức năng

- Đo đạc chính xác các đặc trưng của linh kiện bán dẫn -Màn hình hiển thị cài đặt sử dụng Win XP
-Bàn phím điều khiển
-Cáp kết nối
 Keithley (Mỹ)Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn
30

Thiết bị đo điện trở 4 đầu dò

- Đo các thông số IV, CV của các linh kiện điện tử - Bàn chống rung
- Hệ bốn mũi dò
- Kính hiển vi
 Cascade Microtech (Mỹ)Phương Đình Tâm, Lê Anh Tuấn
31

Máy đo từ kế mẫu rung (VSM)

- Đo tính chất từ (đường cong từ trễ; ZFC/FC, từ trở (MR)...)- Mẫu đo từ: dạng bột, màng, lỏng, khối, dây.
- Mẫu đo từ trở: màng mỏng kích thước 3x9 mm
- Độ lớn từ trường: 2,2 T
- Dải nhiệt độ đo: -77 K - 1000 K
 MicroSence EZ9 (Mỹ)Lê Anh Tuấn, Vũ Ngọc Phan
32

Máy đo hiệu ứng Hall (Lakeshore 7607)

  • Xác định các thông số Hall (điện trở, điện thế, độ linh động Hall) của các loại vật liệu bán dẫn có dạng bột ép, màng.
  • Xác định loại bán dẫn (n và p) và nồng độ hạt tải
  • Xác định độ linh động của hạt tải
  • Hình thái mẫu chuẩn Van der Pauw, thanh Hall (4, 6, hoặc 8 tiếp xúc).
  • Kích thước mẫu :(1 x 1) cm và (5 x 5) cm
  • Độ lớn từ trường : 1.6 T ở nhiệt độ phòng, 1.2 T ở nhiệt độ thấp
  • Khoảng đo theo nhiệt độ : 15 K - 300 K
  • Độ nhạy : R : 10 mOhm - 10 MOhm, I : 50 nA - 1 A.
Lakeshore (Mỹ)Nguyễn Xuân Sáng, Đoàn Quảng Trị